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應(yīng)用

APPLICATION

VHG-M光柵周期測(cè)試系統(tǒng)開啟VR/AR光學(xué)器件質(zhì)效革命

當(dāng)你的VR 眼鏡出現(xiàn)模糊時(shí),問題可能藏在納米級(jí)光柵里
消費(fèi)者抱怨AR 設(shè)備畫面不清晰?工業(yè)質(zhì)檢員反復(fù)校準(zhǔn)色度計(jì)?這些問題的根源往往指向光柵元件的微觀缺陷——
?納米級(jí)的周期誤差可導(dǎo)致意想不到的光線傳輸
?K 矢量畸變引發(fā)光線傳播串?dāng)_,造成成像模糊、色偏
?傳統(tǒng)接觸式測(cè)量劃傷鍍膜層、精度低、無法精確測(cè)試K 矢量
卓立光柵測(cè)試系統(tǒng),重新定義納米級(jí)光柵器件的質(zhì)量基線

設(shè)備內(nèi)部實(shí)拍

一、Littrow 結(jié)構(gòu)+糾偏算法:破解衍射光柵的"基因密碼"
Littrow 結(jié)構(gòu)示意圖
λ/10000--0.02nm 級(jí)光柵周期解析精度
基于Littrow 自準(zhǔn)式入射結(jié)構(gòu),系統(tǒng)通過精密調(diào)整入射角與衍射光強(qiáng)反饋,實(shí)現(xiàn)0.02nm 級(jí)光柵周期測(cè)試靈敏度。相較傳統(tǒng)透射電子顯微鏡、原子力顯微鏡分析法,分辨率提升100倍。
0.005°--K 矢量高精度測(cè)試
獨(dú)家算法實(shí)時(shí)解算光柵面內(nèi)K 矢量角度,K 矢量精度可達(dá)0.005°,全面監(jiān)測(cè)光柵器件面內(nèi)K矢量異常。某AR 光波導(dǎo)客戶借此將產(chǎn)品調(diào)試周期從48 小時(shí)縮短至6 小時(shí)。
支持多種光柵參數(shù)測(cè)試
光柵測(cè)試系統(tǒng)支持多類型光柵測(cè)試,包括:閃耀光柵、反射全息光柵、透射全息光柵和布拉格體全息光柵等。助力VR、AR 行業(yè)客戶。(實(shí)際使用請(qǐng)咨詢)
二、硬核技術(shù)矩陣:實(shí)驗(yàn)室精度,工業(yè)級(jí)可靠性
? 卓立四軸軸微米級(jí)定位系統(tǒng)
位移軸光柵尺反饋,重復(fù)定位精度±3μm,閉環(huán)分辨率:1μm
旋轉(zhuǎn)軸光柵尺反饋,重復(fù)定位精度±0.003°,閉環(huán)分辨率:0.000152°
支持Φ254mm 超大光柵片全域mapping,40s 完成單點(diǎn)測(cè)量,較手動(dòng)調(diào)節(jié)效率提升50 倍。
光柵mapping 結(jié)果
三、從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線:全場(chǎng)景解決方案
科研模式
開放API 接口,支持自定義測(cè)量Recipe,支持自定義數(shù)據(jù)處理。
工業(yè)模式
真空吸附,自動(dòng)上下料,無縫對(duì)接MES/QMS 系統(tǒng),全自動(dòng)檢測(cè)
四、系統(tǒng)關(guān)鍵參數(shù)一覽表
 

單點(diǎn)周期重復(fù)精度

≤0.02nm

單點(diǎn)周期絕對(duì)精度

≤ ±0.1nm

單點(diǎn)光柵面內(nèi)矢量角絕對(duì)精度

≤±0.01°

單點(diǎn)光柵面內(nèi)矢量角重復(fù)精度

≤±0.005°

單點(diǎn)測(cè)試時(shí)間

45s

可測(cè)光柵類型

反/透全息光柵、閃耀光柵、全息體光柵

可測(cè)光柵尺寸

小于 8 英寸(支持定制)